新华网华盛顿11月19日电 美国科学家的一项最新研究发现，经常偏头痛者的大脑皮层痛觉感知区域的厚度明显有别于常人，但目前还不清楚这两者之间的因果关系。

据新一期美国《神经科学》杂志报道，美国马萨诸塞综合医院的研究人员对24名长期患有偏头痛者和12名正常人进行了大脑扫描，结果发现偏头痛患者的大脑皮层中感知身体痛觉、触觉和温度的区域要比正常人厚21%，其中处理头部和脸部感觉信号的部分大脑皮层的厚度与常人的差别最明显。

核心发现：偏头痛患者大脑皮层特定区域显著增厚，尤其是处理头部和脸部感觉信号的区域，厚度差异达21%。 这一发现提示偏头痛可能与大脑结构重塑有关，但因果关系尚不明确。可能的机制包括：反复的偏头痛发作导致神经炎症和皮质重塑，使相关区域增厚；或者先天性的皮层结构差异增加了偏头痛的易感性。后续研究可采用纵向队列和脑功能成像技术，结合神经电生理指标，进一步探索皮层厚度变化与偏头痛发作频率、严重程度的动态关联。

但研究人员还不清楚这种大脑皮层厚度的异常和偏头痛之间的因果关系，可能是这种异常厚度最终导致了偏头痛，也可能是长期的偏头痛刺激使得大脑皮层相关区域变厚。

偏头痛在临床上表现为反复发作的一侧或双侧头痛，常伴有恶心、呕吐、畏光等症状。女性比男性更容易患偏头痛，许多偏头痛患者有家族病史。近年来，针对偏头痛的靶向药物（如CGRP受体拮抗剂）和神经调控疗法（如经颅磁刺激）已取得进展，而大脑皮层结构的研究有望为早期诊断和个体化治疗提供新的生物标志物。