三星宣布11纳米芯片新工艺：7纳米也在路上了

三星电子宣布了新的11nm FinFET制造工艺“11LPP”，并确认未来7nm工艺将采用EUV极紫外光刻技术。11LPP工艺通过融合14nm和10nm技术，实现了性能提升和功耗降低，计划于2018年上半年量产。同时，三星还规划了包括7nm在内的多项先进工艺，其中7nm工艺将全面采用EUV技术，预计2018年下半年开始试产。...