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美专家发现焦虑与压力水平与脑结构相关

2005-11-03 08:00 综合报道 科学网 阅读 0
核心摘要: 美国科学家研究发现,焦虑和压力水平与大脑正中前额叶皮层的厚度相关。较厚的皮层有助于应对压力,而较薄或活动不足的皮层则可能增加患创伤后应激障碍的风险。这一发现为压力相关疾病的诊断和治疗提供了新视角。

美国科学家的一项最新研究表明,焦虑和压力水平可能与大脑结构有关。研究发现,拥有较厚“正中前额叶皮层”(medial prefrontal cortex)的人,通常更能有效应对压力。这一发现为未来医生通过测量脑部特定区域的厚度来评估患者患压力相关疾病的风险提供了可能。

在本次研究中,14名志愿者接受了电击实验以诱发焦虑感。研究人员通过脑部扫描发现,正中前额叶皮层较厚的个体表现出更强的抗压能力。这一结果有助于解释为何一些人在经历创伤后能快速恢复,而另一些人则发展为创伤后应激障碍(PTSD)。研究团队下一步将探索导致这种差异的原因,例如遗传或环境因素。

英国精神病学家哈尔斯特伦博士指出,重要的是确认创伤后应激障碍是一种可治疗的疾病,且早期干预效果更佳。动物实验已表明,正中前额叶皮层有助于消除恐怖记忆;而其他研究显示,PTSD患者的正中前额叶皮层通常活动水平较低,进一步证实了该脑区与焦虑和压力的关联。

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