美国总统布什于27日在白宫为过去两年间在科技领域取得突破性进展的科学家颁发美国国家科学奖章与国家技术奖章。美籍华裔著名科学家卓以和是30位获奖者之一。

卓以和1937年生于北京，1955年赴美，现任美国朗讯科技公司贝尔实验室半导体研究室主任。他因对分子束外延技术和高级电子光子设备发展所作的贡献而获得国家技术奖章。卓以和是国际公认的分子束外延与人工微结构材料生长的奠基人与开拓者，被称为“分子束外延技术之父”。他用研制的新材料最先研究成功10多种极为重要、性能优异的新型微波高速电子器件和光电子器件。

国家技术奖章是美国技术界的最高荣誉，设立于1980年，由美国商务部负责评选。卓以和曾于1993年获得国家科学奖章，此次再获殊荣，彰显了其在材料科学领域的卓越贡献。